| セッションＣ４ 材料・プロセス（2） リソグラフィー技術 |
| １０：３０〜１２：３０ Ｃ会場 |
| 座長 村上裕二（東レ） |
| C4-1 LIGA-MAプロセスによるチタン-シリコン系セラミックス複合材マイクロ金型の製作 |
| 宮野公樹（九州大学）、岩佐浩志、飴山 恵、杉山 進（立命館大学） |
| C4-2 移動マスクX線リソグラフィーにおけるX3Dの有用性 |
| 平井義和、松塚直樹、田畑 修（立命館大学）、Sadik Hafizovic、Jan G. Korvink（フライブルク大学） |
| C4-3 X線マスクパターン最適化によるマイクロニードル先端径微細化の検討 |
| 川口 岳、佐本典彦、土佐秀樹、杉山 進（立命館大学） |
| C4-4 ナノ粒子分散ポリマのパウダーブラスト用マスク材への応用 |
| 柳生裕聖、林 茂彦（三ツ星ベルト）、田畑 修（立命館大学） |
| C4-5 クロムマスクによるグレイスケールリソグラフィーの研究 |
| 花井 計、松本佳宣（慶應義塾大学） |
| C4-6 走査型プローブ顕微鏡による導電性ポリマ薄膜の装飾 |
| 吉田慎哉、小野崇人、安部 隆、江刺正喜（東北大学） |